Sistema de agua ultrapura de 3 m³/h con EDI y resina de pulido para laboratorios y fábricas de electrónica.
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Sistema de agua ultrapura de 3 m³/h con EDI y resina de pulido para laboratorios y fábricas de electrónica.

Sistema de agua ultrapura EDI de 3 m³/h con tecnología de resina de pulido integrada, que proporciona agua de alta pureza estable de 18,2 MΩ.cm. Diseñado para la fabricación de productos electrónicos, I+D de laboratorio y limpieza de precisión de piezas de automoción, ofrece soluciones de agua fiables sin regeneración química y de fácil mantenimiento.

descripción

UPW (Agua ultrapura)

 

El agua ultrapura se refiere al agua con una conductividad eléctrica de menos de 0,1 μs/cm y un contenido de sal residual de menos de 0,3 mg/L a 25 °C, utilizando tecnología de ósmosis inversa RO y tecnología EDI (tecnología de fabricación que combina tecnología de membrana de intercambio iónico y tecnología de electromigración de iones).

   

Proceso general

Pretratamiento → Ósmosis inversa → Tanque de agua intermedio → Bomba de agua → Dispositivo EDI → Tanque de agua pura → Bomba de agua pura → Esterilizador UV → Lecho de mezcla pulido → Filtro de precisión O.2/0.5μm → Agua de salida (≥ 18mΩ.cm)

 

Calidad del agua de salida

La calidad del agua cumple con los estándares ASTM.

Conductividad <0,1 μs/cm Valor TOC: <3 ppb

Contenido bacteriano <1 UFC/ml Temperatura del agua adaptable: 5,0 ~ 40,0 °C


Ámbito y campo de aplicación:

Electrónica, electricidad, biología, productos farmacéuticos, petróleo, vidrio y otros campos; por ejemplo, chips semiconductores, chips semiconductores, comunicación óptica, componentes de computadora, productos de limpieza de condensadores y varios componentes y otros procesos de producción con agua de alta pureza.




 


 

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